АО «НТО» / SemiTEq
Оборудование для ключевых процессов современной микроэлектроники
АО «НТО» под маркой SemiTEq обеспечивает полный цикл разработки и производства специального технологического оборудования для создания ЭКБ радиоэлектронной промышленности. Компания серийно выпускает установки молекулярно-лучевой эпитаксии, решения для плазмохимической обработки, физического осаждения и быстрой термической обработки.
Собственная конструкторская и производственная база, прикладная лаборатория и инженерно-технологическая экспертиза позволяют подбирать конфигурацию оборудования под реальные параметры процесса и задачи заказчика.
О компании
Разработка и производство специального технологического оборудования для электроники
АО «НТО» разрабатывает и выпускает оборудование для формирования и обработки полупроводниковых и тонкоплёночных структур. Компания производит установки молекулярно-лучевой эпитаксии для материалов A3N, A3B5 и A2B6, а также широкий спектр систем для процессов осаждения, травления и термической обработки пластин.
При разработке новых моделей используются требования заказчиков, опыт эксплуатации действующих систем и современные технические решения. Важная часть компетенций — собственная прикладная лаборатория, где выполняются тестирование оборудования, апробация конфигураций и постановка базовых технологических процессов.
Ключевые платформы
Основные направления оборудования и отдельные страницы каталога
На сайте собраны основные продуктовые направления АО «НТО». Для каждого раздела доступны отдельные страницы с моделями оборудования, фотографиями и краткими описаниями.
MBE
Установки молекулярно-лучевой эпитаксии для исследовательских и производственно-ориентированных задач.
- Рост A3B5, A2B6, нитридов
- UHV-архитектура
- Гибкость конфигурации и аналитики
MOCVD
Оборудование для МОС-гидридной эпитаксии с фокусом на воспроизводимость процесса и масштабирование.
- Рост сложных структур
- Стабильность газовой части
- Производственно-ориентированный подход
Плазмохимия
Платформы для плазмохимического травления и осаждения пластин с точным управлением газами, мощностями и давлением.
- ICP / RIE / PECVD
- Рецептурное управление
- Очистка и межблокировки
PVD
Установки физического осаждения: электронно-лучевое и магнетронное напыление для тонкоплёночных структур.
- Высокий вакуум
- Контроль толщины и равномерности
- R&D и мелкая серия
RTA / отжиг
Системы быстрой термической обработки и отжига для критичных технологических этапов.
- Повторяемость режима
- Точное тепловое окно
- Интеграция в маршрут
Каталог оборудования
Единая точка входа во все отдельные страницы с направлениями, моделями и фотографиями оборудования.
- Структура по направлениям
- Фото и названия моделей
- Ссылки на оригинальные источники
АО «НТО» / SemiTEq
Инженерная компания с собственным оборудованием, производством и технологической базой
От конструкторской проработки и сборки до технологического тестирования, пусконаладки и запуска базовых процессов у заказчика.
Новые конфигурации и модели проектируются с учётом требований заказчиков, опыта действующих установок и современных технических решений.
Компания сопровождает оборудование инженерно-технологической экспертизой: подбором режимов, обучением персонала и постановкой базовых процессов.
Про компанию
Оборудование для роста, осаждения, травления и термообработки
АО «НТО» серийно выпускает установки молекулярно-лучевой эпитаксии для материалов A3N, A3B5 и A2B6, а также системы для физического осаждения, плазмохимической обработки и быстрой термической обработки пластин.
Прикладная лаборатория
Технологическое тестирование, разработка базовых процессов и подтверждение характеристик оборудования
Прикладная лаборатория работает в структуре компании с 2010 года, оснащена оборудованием АО «НТО» и используется для демонстрационных процессов, углублённого тестирования установок и постановки базовых технологических маршрутов.
О лаборатории
Как устроена лаборатория, чем оснащена и как используется при вводе оборудования в эксплуатацию.
GaAs-гетероструктуры
Рост эпитаксиальных гетероструктур на основе GaAs на подложке Ø2’’.
Нитриды III группы
Особенности эпитаксиального роста и результаты на платформах STE3N и STE35.
Материалы A3B5 для СВЧ
Результаты по материалам и структурам для СВЧ-электроники.
Лазерные гетероструктуры
Разработки на основе материалов A3B5/A2B6 и низкопороговые структуры.
Квантовые схемы
Материалы A3B5 для интеграции в схемы квантовых вычислений.
STE EB71
Параметры электронно-лучевого напыления и технологические преимущества установки.
STE ICP
Плазмохимическое травление и осаждение: процессы, материалы и примеры результатов.
Коммуникация
Новости и достижения компании
На основе текущего semiteq.ru в этом блоке логично показывать выставки, форум «Микроэлектроника», ExpoElectronica, отраслевые награды и производственно-ориентированные разработки.
25 лет в электронном машиностроении
История развития и зрелость компании должны быть видны сразу, а не скрыты в архиве новостей.
ExpoElectronica / Форум «Микроэлектроника»
Новый сайт может выводить участие в отраслевых событиях как подтверждение актуальности и видимости компании.
Разработки под серийный выпуск
Отдельный акцент на оборудовании, которое доведено не только до R&D, но и до производственного контура.