STE ICP200E Установка плазмохимического травления в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда
ICP200E Установка плазмохимического травления в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда
Источник на semiteq.ruРаздел каталога
Установки для плазмохимической обработки пластин
Универсальная технологическая платформа STE ICP200 для широкого спектра процессов плазмохимического травления и осаждения.
На semiteq.ru направление описано как платформа для процессов в емкостной, индуктивно-связанной и комбинированной плазме с эффективной теплопередачей и гибкими возможностями ПО.
Модели и платформы
Что представлено в этом направлении
Краткие описания и названия моделей взяты с semiteq.ru. Структура страницы адаптирована под новый сайт.
STE RIE200 Установка реактивного ионного травления
RIE200 Установка реактивного ионного травления
Источник на semiteq.ru
STE ICP200D Установка плазмохимического осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме
ICP200D Установка плазмохимического осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме
Источник на semiteq.ru
STE PECVD200 Установка плазмохимического осаждения диэлектриков в классическом PECVD режиме
PECVD200 Установка плазмохимического осаждения диэлектриков в классическом PECVD режиме
Источник на semiteq.ru