Рост материалов A3B5 для СВЧ-электроники

Плотность овальных дефектов менее 50 см-2.

Вольт-фарадная характеристика GaAs-MESFET-структуры

Карта измерений слоевого сопротивления MESFET-структуры,выращенной на подложке Ø4”

Рост материалов A3B5 для СВЧ-электроники

Описание, изображения и параметры

Ниже размещён переработанный материал с semiteq.ru с сохранением технологической сути и визуальных данных.

Плотность овальных дефектов менее 50 см-2.

Вольт-фарадная характеристика GaAs-MESFET-структуры

 

Карта измерений слоевого сопротивления MESFET-структуры,выращенной на подложке Ø4”

Изображения по теме

Рост материалов A3B5 для СВЧ-электроники
Рост материалов A3B5 для СВЧ-электроники